[PRNewswire] Atonarp, 반도체 제조 공정 산출량, 처리량, 효율성 향상을 목표로
혁신적인 새 계량 플랫폼 Aston 발표
(도쿄 2021년 7월 15일 PRNewswire=연합뉴스) Atonarp[https://www.atonarp.com/ ] 반도체, 의료 및 제약 산업의 분자 감지 및 진단 제품의 선두 제조업체인 Atonarp는 오늘[https://www.atonarp.com/products/aston ] 플라스마 이온화 소스가 통합된 혁신적인 현장 반도체 계량 플랫폼인 Aston을 발표했다.
Aston은 반도체 생산 공정 계량의 주요한 발전 단계로, 현장 분자 공정 제어를 가능하게 하고, 생산량을 늘려 기존 팹을 보다 효율적으로 운영할 수 있게 한다. 반도체 생산을 위해 기초부터 구축한 Aston은 다양한 기존 도구를 대체할 수 있는 강력한 플랫폼으로, 석판인쇄, 유전 및 전도성 식각과 증착, 챔버 청소, 챔버 매칭, 경감 등 포괄적인 애플리케이션 전반에 걸쳐 전례 없는 수준의 제어 기능을 제공한다.
"Aston을 통해 특정 애플리케이션에서 유닛 프로세스 처리량이 40%를 초과하며 크게 개선되었습니다. 전반적인 팹 처리량이 1%만 개선되어도 일반적인 팹 생산 비용이 연간 수천만 달러에 달할 수 있습니다."라고 Atonarp의 CEO이자 CTO인 Prakash Murthy는 말했다.
Murthy는 "새 생산 장비를 설치하는 데 최대 1년이 걸리는 것에 비해 기존 생산 프로세스 도구에 Aston을 보강하면 단 6~8주 이내에 더 많은 처리량을 산출할 수 있습니다."라고 말했다. "이를 통해 제조업체가 생산 수준을 높이고 현재의 반도체 팹 용량 부족 문제를 해결하는 데 큰 도움이 될 것입니다."
빠르고 실행 가능한 엔드포인트 감지(EPD)는 반도체 도구와 팹을 실행하는 가장 효율적인 방법이다. 지금까지는 필요한 현장 센서가 거친 공정 또는 챔버 청소 화학 물질에 견디지 못하거나 응축수 침전물로 인해 막힐 수 있기 때문에 많은 공정 단계에서 EPD를 효율적으로 사용할 수 없었다. 과거에는 공정을 확실히 완료하기 위해 정해진 시간에만 팹을 사용해야 했다. 반면 Aston은 챔버 청소 등 공정 완료 시점을 정확히 감지하여 생산량을 최적화하고, 필요한 클린타임을 최대 80%까지 줄일 수 있다.
Aston은 부식성 가스와 가스 오염물 응축액에 내성이 있다. 기존 솔루션보다 더 견고하며, 반도체 생산 시 발생하는 열악한 조건에서도 안정적으로 작동하는 독립적인 이중 이온화 소스(전형적인 전자 충격 이온화 소스 및 필라멘트 없는 플라스마 이온화 장치)가 특징이다. 이로 인해 기존의 전자 이온화 장치가 매우 빠르게 부식되고 고장 나는 까다로운 환경에서도 Aston을 현장에서 사용할 수 있다.
Aston은 기존 대용량 분석기와 비교해 최대 100배 긴 점검 이벤트 간격을 제공한다. 여기에는 특정 공정에 존재하는 응축액의 침적으로 인한 축적을 제거하는 자체 청소 기능이 포함된다.
Aston은 자체 플라스마를 생성하므로, 공정 플라스마가 있든 없든 상관없이 작동한다. 따라서 Aston은 플라스마 선원이 작동해야 하는 광학 발광 분석 계량 기술에 비해 분명한 이점이 있고, ALD 및 가공에 약하거나 펄스 또는 플라스마를 사용하지 않는 특정 금속 증착 공정에 이상적이다.
Aston은 또한 정량화되고 실행 가능한 실시간 데이터를 제공하여 가장 까다로운 프로세스 애플리케이션에 대해 인공지능(AI)을 통한 강력한 기계 학습을 촉진함으로써 프로세스 일관성을 향상한다. 이는 라인 및 제품 수율 향상과 더불어 실시간 데이터 및 프로세스 챔버 관리를 위한 높은 정확성, 민감도 및 반복성으로 인해 가능하다.
Aston은 화학적 증기 침적(CVD) 및 식각 애플리케이션에 사용되는 것을 주목표로 하고 있으며, 두 가지 모두 연간 사용 증가율이 13%를 초과하고 있다. 분광계는 조립 중에 새 프로세스 챔버에 장착하거나 이미 작동 중인 기존 챔버에 장착할 수 있다.
Aston은 ATI Korea가 개발한 지능형 압력 컨트롤러 Psi와 함께 사용할 수도 있다. 이 협력적 솔루션은 수개월에 걸친 종합적인 기술 타당성 평가를 거쳤고, 최근 삼성[https://www.atonarp.com/atonarp-news/ati-korea-and-atonarp-announce-combined-solution-for-advanced-lithography-samsung-evaluation ]이 고급 공정 제어 애플리케이션을 위해 구매했다.
이제 직접 구매 또는 Atonarp의 글로벌 파트너 네트워크를 통해 Aston을 평가하고 주문할 수 있다[https://www.atonarp.com/company/partners ].
Atonarp 소개
Atonarp는 생명과학, 제약 및 반도체 시장을 위한 분자 감지 및 진단의 디지털 혁신을 주도하고 있다. 통합 소프트웨어 플랫폼과 광학 및 질량 분석계 기술의 획기적인 혁신에 힘입어, Atonarp 제품은 실행 가능하고 포괄적인 실시간 분자 프로파일링 데이터를 제공한다. 반도체, 생명과학 및 건강 진단 장비의 개발 및 상용화 전문가들로 구성된 세계적 수준의 팀을 이끄는 Atonarp는 일본, 미국 및 인도에 지사를 두고 있다. 자세한 정보는 웹사이트 참조 https://atonarp.com.
사진 - https://mma.prnewswire.com/media/1573281/Aston_01.jpg
Atonarp's Aston is an innovative in-situ semiconductor metrology platform with an integrated plasma ionization source.
로고 - https://mma.prnewswire.com/media/1573283/Antonarp_Logotype_Black_Logo.jpg
Atonarp corporate logo
출처: Atonarp Inc.
Atonarp announces innovative new metrology platform Aston, aimed at increasing yield, throughput, and efficiency in semiconductor manufacturing processes
TOKYO, July 15, 2021 /PRNewswire/ -- Atonarp [https://www.atonarp.com/ ], a leading manufacturer of molecular sensing and diagnostics products for the semiconductor, healthcare, and pharma industries, today announced Aston [https://www.atonarp.com/products/aston ], an innovative in-situ semiconductor metrology platform with an integrated plasma ionization source.
Aston is a major evolution in metrology for semiconductor production processes, enabling in-situ molecular process control and allowing existing fabs to run more efficiently, driving higher output. Built from the ground up for semiconductor production, Aston is a robust platform that can replace multiple legacy tools and provide unprecedented levels of control across a comprehensive set of applications, including lithography, dielectric and conductive etch and deposition, chamber clean, chamber matching, and abatement.
"With Aston, we've seen unit process throughput increases exceeding 40% in certain applications - that's a big improvement. Even a 1% improvement in overall fab throughput can add up to tens of millions of dollars a year in production for a typical fab," said Prakash Murthy, CEO, CTO, and founder of Atonarp.
"Retrofitting Aston to an existing production process tool can deliver greater throughput within just six to eight weeks, compared to up to a year when installing new production equipment," said Murthy. "This will materially help manufacturers increase their production levels and help to address the current shortage of semiconductor fab capacity."
Rapid, actionable endpoint detection (EPD) is the most efficient way to run a semiconductor tool and fab. Until now, EPD could not be deployed in many process steps because the required in-situ sensor would not survive the harsh process or chamber cleaning chemicals, or would alternatively suffer clogging from condensate deposits. Historically, fabs were forced to use a fixed time in order to ensure that a process was complete. Conversely, Aston optimizes production by detecting exactly when a process has finished, including chamber cleaning, which can reduce the required clean-time by up to 80%.
Aston is resistant to corrosive gases and gaseous contaminant condensates. It is more robust than existing solutions, featuring independent dual ionization sources - a classic electron impact ionization source and a filament-less plasma ionizer - that work reliably in the harsh conditions encountered in semiconductor production. This enables Aston to be used in-situ, in demanding environments where traditional electron ionizers would corrode and fail very rapidly.
Aston offers an interval between service events that is up to 100 times longer compared to legacy mass analyzers. It includes self-cleaning capability that eliminates the build-up resulting from the deposition of condensates present in certain processes.
Since Aston generates its own plasma, it works with or without process plasma present. This provides a clear advantage over optical emission spectroscopy metrology techniques, which require a plasma source to operate, making Aston ideal for ALD and certain metal deposition processes that may use a weak, pulsed, or no plasma for processing.
Aston also delivers improved process consistency by offering quantified, actionable, real-time data, facilitating powerful machine learning via artificial intelligence (AI) for the most demanding process applications. This is in addition to enhanced line and product yields, thanks to high accuracy, sensitivity, and repeatability for statistical analysis of real-time data and process chamber management.
Aston is primarily aimed at use with chemical vapour deposition (CVD) and etching applications, both of which are registering annual growth rates in their usage exceeding 13%. The spectrometer can either be installed within new process chambers during their assembly, or retrofitted into existing chambers already in operation.
Aston can also be used with Psi, an intelligent pressure controller developed by ATI Korea. After undergoing a comprehensive, multi-month technical feasibility evaluation, this combined solution was recently purchased by Samsung [https://www.atonarp.com/atonarp-news/ati-korea-and-atonarp-announce-combined-solution-for-advanced-lithography-samsung-evaluation ] for an advanced process control application.
Aston is now available for evaluation and ordering, through either direct purchase or Atonarp's global partner network [https://www.atonarp.com/company/partners ].
About Atonarp
Atonarp is leading the digital transformation of molecular sensing and diagnostics for life sciences, pharmaceutical, and semiconductor markets. Powered by a unifying software platform and breakthrough innovations in optical and mass spectrometer technology, Atonarp products deliver real-time, actionable, comprehensive molecular profiling data. Led by a world-class team of experts in the development and commercialization of semiconductor, life sciences, and health diagnostic instruments, Atonarp has operations in Japan, the United States, and India. Learn more at https://atonarp.com.
Photo - https://mma.prnewswire.com/media/1573281/Aston_01.jpg
Atonarp's Aston is an innovative in-situ semiconductor metrology platform with an integrated plasma ionization source.
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Atonarp corporate logo
Source: Atonarp Inc.
[편집자 주] 본고는 자료 제공사에서 제공한 것으로, 연합뉴스는 내용에 대해 어떠한 편집도 하지 않았음을 밝혀 드립니다.
(끝)
출처 : PRNewswire 보도자료
혁신적인 새 계량 플랫폼 Aston 발표
(도쿄 2021년 7월 15일 PRNewswire=연합뉴스) Atonarp[https://www.atonarp.com/ ] 반도체, 의료 및 제약 산업의 분자 감지 및 진단 제품의 선두 제조업체인 Atonarp는 오늘[https://www.atonarp.com/products/aston ] 플라스마 이온화 소스가 통합된 혁신적인 현장 반도체 계량 플랫폼인 Aston을 발표했다.
Aston은 반도체 생산 공정 계량의 주요한 발전 단계로, 현장 분자 공정 제어를 가능하게 하고, 생산량을 늘려 기존 팹을 보다 효율적으로 운영할 수 있게 한다. 반도체 생산을 위해 기초부터 구축한 Aston은 다양한 기존 도구를 대체할 수 있는 강력한 플랫폼으로, 석판인쇄, 유전 및 전도성 식각과 증착, 챔버 청소, 챔버 매칭, 경감 등 포괄적인 애플리케이션 전반에 걸쳐 전례 없는 수준의 제어 기능을 제공한다.
"Aston을 통해 특정 애플리케이션에서 유닛 프로세스 처리량이 40%를 초과하며 크게 개선되었습니다. 전반적인 팹 처리량이 1%만 개선되어도 일반적인 팹 생산 비용이 연간 수천만 달러에 달할 수 있습니다."라고 Atonarp의 CEO이자 CTO인 Prakash Murthy는 말했다.
Murthy는 "새 생산 장비를 설치하는 데 최대 1년이 걸리는 것에 비해 기존 생산 프로세스 도구에 Aston을 보강하면 단 6~8주 이내에 더 많은 처리량을 산출할 수 있습니다."라고 말했다. "이를 통해 제조업체가 생산 수준을 높이고 현재의 반도체 팹 용량 부족 문제를 해결하는 데 큰 도움이 될 것입니다."
빠르고 실행 가능한 엔드포인트 감지(EPD)는 반도체 도구와 팹을 실행하는 가장 효율적인 방법이다. 지금까지는 필요한 현장 센서가 거친 공정 또는 챔버 청소 화학 물질에 견디지 못하거나 응축수 침전물로 인해 막힐 수 있기 때문에 많은 공정 단계에서 EPD를 효율적으로 사용할 수 없었다. 과거에는 공정을 확실히 완료하기 위해 정해진 시간에만 팹을 사용해야 했다. 반면 Aston은 챔버 청소 등 공정 완료 시점을 정확히 감지하여 생산량을 최적화하고, 필요한 클린타임을 최대 80%까지 줄일 수 있다.
Aston은 부식성 가스와 가스 오염물 응축액에 내성이 있다. 기존 솔루션보다 더 견고하며, 반도체 생산 시 발생하는 열악한 조건에서도 안정적으로 작동하는 독립적인 이중 이온화 소스(전형적인 전자 충격 이온화 소스 및 필라멘트 없는 플라스마 이온화 장치)가 특징이다. 이로 인해 기존의 전자 이온화 장치가 매우 빠르게 부식되고 고장 나는 까다로운 환경에서도 Aston을 현장에서 사용할 수 있다.
Aston은 기존 대용량 분석기와 비교해 최대 100배 긴 점검 이벤트 간격을 제공한다. 여기에는 특정 공정에 존재하는 응축액의 침적으로 인한 축적을 제거하는 자체 청소 기능이 포함된다.
Aston은 자체 플라스마를 생성하므로, 공정 플라스마가 있든 없든 상관없이 작동한다. 따라서 Aston은 플라스마 선원이 작동해야 하는 광학 발광 분석 계량 기술에 비해 분명한 이점이 있고, ALD 및 가공에 약하거나 펄스 또는 플라스마를 사용하지 않는 특정 금속 증착 공정에 이상적이다.
Aston은 또한 정량화되고 실행 가능한 실시간 데이터를 제공하여 가장 까다로운 프로세스 애플리케이션에 대해 인공지능(AI)을 통한 강력한 기계 학습을 촉진함으로써 프로세스 일관성을 향상한다. 이는 라인 및 제품 수율 향상과 더불어 실시간 데이터 및 프로세스 챔버 관리를 위한 높은 정확성, 민감도 및 반복성으로 인해 가능하다.
Aston은 화학적 증기 침적(CVD) 및 식각 애플리케이션에 사용되는 것을 주목표로 하고 있으며, 두 가지 모두 연간 사용 증가율이 13%를 초과하고 있다. 분광계는 조립 중에 새 프로세스 챔버에 장착하거나 이미 작동 중인 기존 챔버에 장착할 수 있다.
Aston은 ATI Korea가 개발한 지능형 압력 컨트롤러 Psi와 함께 사용할 수도 있다. 이 협력적 솔루션은 수개월에 걸친 종합적인 기술 타당성 평가를 거쳤고, 최근 삼성[https://www.atonarp.com/atonarp-news/ati-korea-and-atonarp-announce-combined-solution-for-advanced-lithography-samsung-evaluation ]이 고급 공정 제어 애플리케이션을 위해 구매했다.
이제 직접 구매 또는 Atonarp의 글로벌 파트너 네트워크를 통해 Aston을 평가하고 주문할 수 있다[https://www.atonarp.com/company/partners ].
Atonarp 소개
Atonarp는 생명과학, 제약 및 반도체 시장을 위한 분자 감지 및 진단의 디지털 혁신을 주도하고 있다. 통합 소프트웨어 플랫폼과 광학 및 질량 분석계 기술의 획기적인 혁신에 힘입어, Atonarp 제품은 실행 가능하고 포괄적인 실시간 분자 프로파일링 데이터를 제공한다. 반도체, 생명과학 및 건강 진단 장비의 개발 및 상용화 전문가들로 구성된 세계적 수준의 팀을 이끄는 Atonarp는 일본, 미국 및 인도에 지사를 두고 있다. 자세한 정보는 웹사이트 참조 https://atonarp.com.
사진 - https://mma.prnewswire.com/media/1573281/Aston_01.jpg
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출처: Atonarp Inc.
Atonarp announces innovative new metrology platform Aston, aimed at increasing yield, throughput, and efficiency in semiconductor manufacturing processes
TOKYO, July 15, 2021 /PRNewswire/ -- Atonarp [https://www.atonarp.com/ ], a leading manufacturer of molecular sensing and diagnostics products for the semiconductor, healthcare, and pharma industries, today announced Aston [https://www.atonarp.com/products/aston ], an innovative in-situ semiconductor metrology platform with an integrated plasma ionization source.
Aston is a major evolution in metrology for semiconductor production processes, enabling in-situ molecular process control and allowing existing fabs to run more efficiently, driving higher output. Built from the ground up for semiconductor production, Aston is a robust platform that can replace multiple legacy tools and provide unprecedented levels of control across a comprehensive set of applications, including lithography, dielectric and conductive etch and deposition, chamber clean, chamber matching, and abatement.
"With Aston, we've seen unit process throughput increases exceeding 40% in certain applications - that's a big improvement. Even a 1% improvement in overall fab throughput can add up to tens of millions of dollars a year in production for a typical fab," said Prakash Murthy, CEO, CTO, and founder of Atonarp.
"Retrofitting Aston to an existing production process tool can deliver greater throughput within just six to eight weeks, compared to up to a year when installing new production equipment," said Murthy. "This will materially help manufacturers increase their production levels and help to address the current shortage of semiconductor fab capacity."
Rapid, actionable endpoint detection (EPD) is the most efficient way to run a semiconductor tool and fab. Until now, EPD could not be deployed in many process steps because the required in-situ sensor would not survive the harsh process or chamber cleaning chemicals, or would alternatively suffer clogging from condensate deposits. Historically, fabs were forced to use a fixed time in order to ensure that a process was complete. Conversely, Aston optimizes production by detecting exactly when a process has finished, including chamber cleaning, which can reduce the required clean-time by up to 80%.
Aston is resistant to corrosive gases and gaseous contaminant condensates. It is more robust than existing solutions, featuring independent dual ionization sources - a classic electron impact ionization source and a filament-less plasma ionizer - that work reliably in the harsh conditions encountered in semiconductor production. This enables Aston to be used in-situ, in demanding environments where traditional electron ionizers would corrode and fail very rapidly.
Aston offers an interval between service events that is up to 100 times longer compared to legacy mass analyzers. It includes self-cleaning capability that eliminates the build-up resulting from the deposition of condensates present in certain processes.
Since Aston generates its own plasma, it works with or without process plasma present. This provides a clear advantage over optical emission spectroscopy metrology techniques, which require a plasma source to operate, making Aston ideal for ALD and certain metal deposition processes that may use a weak, pulsed, or no plasma for processing.
Aston also delivers improved process consistency by offering quantified, actionable, real-time data, facilitating powerful machine learning via artificial intelligence (AI) for the most demanding process applications. This is in addition to enhanced line and product yields, thanks to high accuracy, sensitivity, and repeatability for statistical analysis of real-time data and process chamber management.
Aston is primarily aimed at use with chemical vapour deposition (CVD) and etching applications, both of which are registering annual growth rates in their usage exceeding 13%. The spectrometer can either be installed within new process chambers during their assembly, or retrofitted into existing chambers already in operation.
Aston can also be used with Psi, an intelligent pressure controller developed by ATI Korea. After undergoing a comprehensive, multi-month technical feasibility evaluation, this combined solution was recently purchased by Samsung [https://www.atonarp.com/atonarp-news/ati-korea-and-atonarp-announce-combined-solution-for-advanced-lithography-samsung-evaluation ] for an advanced process control application.
Aston is now available for evaluation and ordering, through either direct purchase or Atonarp's global partner network [https://www.atonarp.com/company/partners ].
About Atonarp
Atonarp is leading the digital transformation of molecular sensing and diagnostics for life sciences, pharmaceutical, and semiconductor markets. Powered by a unifying software platform and breakthrough innovations in optical and mass spectrometer technology, Atonarp products deliver real-time, actionable, comprehensive molecular profiling data. Led by a world-class team of experts in the development and commercialization of semiconductor, life sciences, and health diagnostic instruments, Atonarp has operations in Japan, the United States, and India. Learn more at https://atonarp.com.
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Source: Atonarp Inc.
[편집자 주] 본고는 자료 제공사에서 제공한 것으로, 연합뉴스는 내용에 대해 어떠한 편집도 하지 않았음을 밝혀 드립니다.
(끝)
출처 : PRNewswire 보도자료
